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关于蓝宝石抛光液 CMP浆料 CMP抛光液 CMP研磨液的信息

主要特点

    蓝宝石基片CMP浆料采用我司自主合成生产的高纯纳米SiO2水溶胶作为磨料,具有生产自动化高,稳定性好的特点。CMP浆料生产过程中采用自动化配制,辅料的添加采用高精度流量计控制,全方位立体搅拌,两层折叠滤芯过滤,自动罐装包装的生产配制方法,因此产品金属杂志极少,易清洗,无毒无污染,使用中产品移除率高,损伤层小,平整度高,避免晶片出现划伤。HPHE/SPS-SH-1813型CMP浆料中加入了特有的抛光促进剂以及活性物质,能够在CMP过程中保证质量传输的一致性,提高抛光效率。

  CMP工艺中通过配比优化,可在推荐参数范围内实现优异工艺效果,同时,该产品在抛光过程中具有非结晶特性,划伤少,可以循环使用等优点。

使用方法

HPHE/SPS-SH-1813型蓝宝石基片CMP浆料建议和去离子水的配比为1:1循环使用或1:2-3不循环,也可根据实际要求改变配比




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